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旋转靶材
旋转靶材

 

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旋转氧化‍‍锡靶ITO


化学式:In203:SnO2

成型工艺:冷等静压+高温烧结+帮定

密度:≥7.13g/cm3(≥99.7%)

纯度:≥99.99%

应用:主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃

最大加工尺寸:长度:530MM,厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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旋转银靶Ag


成型工艺:喷涂  

密度:≥10.4g/cm(≥99%)

纯度:≥99.99%

应用:主要用于Low-E镀膜玻璃,薄膜太阳能行业,TFT-LCD,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转硅铝靶SiAl‍


化学式:SiAl(90:10wt%±2%)

电阻率(20℃):≤0.1Ω.cm

成型工艺:喷涂

密度:≥2.22g/cm(≥95%)

纯度:≥99.9%

应用:用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子电子,TFT-LCD,平面显示,触摸屏玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-13MM,直


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氧化‍‍铟In2O3


化学式:In2O3

英文名:Indium Oxide

分子量:277.63400   

密度:7.179g/cm(25℃)

蒸气压(mmHg,25℃):<0.01

溶解性:不溶于水,溶于热的无机酸

制备工艺:中和沉淀+干燥+般烧纯度:≥99.99%

应用:大量应用于光电行业等高新技术领域和军事领域,特别适用于加工为钢锡氧化物(ITO)靶材,制造透明电极和透明热反射体材料,用于生产平面液晶显示器和除雾冰器。


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‍旋转氧化铌靶NbOx‍‍


化学式:Nb2Ox(4.3<x<4.9)

电阻率(20℃):≤0.1Ω.cm

成型工艺:喷涂       

密度:≥4.3g/cm2(≥95%)

纯度:≥99.95%

应用:主要用于LOW-E镀膜玻璃,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT-LCD,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转‍氧化钛靶TiOx


化学式:TiOx(1.7<x<1.9)

电阻率(20℃):≤0.3Q.cm

成型工艺:喷涂   

密度:≥4.05g/cm3(≥95%)

纯度:≥99.6%

应用:用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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‍‍旋转氧化锆‍靶ZrOx‍


化学式:Zr0x(1.5<x<1.9)  

电阻率(20℃):≤1Ω.cm

成型工艺:喷涂

密度:≥5.45g/cm3  

纯度:≥99.7%(含Hf)

应用:主要用于触摸屏,Low-E玻璃膜系,工具镀膜和装饰镀膜

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-8MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转钛铝靶TiAI‍


化学式:TiAI       

成分:50:50at%

成型工艺:喷涂       

密度:≥3.7g/cm3

纯度:≥99.5%

应用:用于制作陶瓷钛铝合金膜,主要用于装饰镀和工具镀半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转氧化锌铝靶AZO‍


化学式:TiOx(1.7<x<1.9)

电阻率(20℃):≤0.3Q.cm

成型工艺:喷涂     

密度:≥4.05g/cm3(≥95%)

纯度:≥99.6%

应用:用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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‍‍旋转锆靶Zr


化学式;:Zr   

成型工艺:一体成型

密度:≥6.4g/cm3(≥100%)

纯度:≥99.5%

应用:主要用于消费电子行业,Low-e玻璃镀膜,触摸屏

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转镍铬靶NiCr‍


化学式:NiCr

成型工艺:喷涂

密度:≥8.15g/cm3(≥95%)

纯度:≥99.5%

应用:广泛用于各类装饰镀膜,光学膜系,建筑汽车玻璃膜系,Low-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:5MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转锌铝靶ZnAI‍


化学式:ZnAl

成型工艺:喷涂

密度:≥5.8 g/cm3

纯度:≥99.9%

应用:主要用于制作ZnO.Al203膜,广泛用于TCO玻璃,热反射玻璃,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转铬靶Cr


化学式:Cr     

成型工艺:喷涂

密度:≥6.47g/cm3   

纯度:≥99.5%

应用:用于制作Cr及CrNO膜,主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转硅靶Si‍


化学式:Si   

电阻率(20℃):0.01-400Ω.cm

成型工艺:喷涂

密度:≥2.26g/cm3(≥96%)

纯度:≥99.9%

应用:用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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旋转铝靶AI


化学式:Al       

成型工艺:喷涂

密度:≥2.6g/cm(≥96%)

纯度:≥99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用:主要用于表面装饰及功能镀膜,半导体电子,TFT-LC D,平面显示,薄膜太阳能行业

最大加工尺寸:长度L:4000MM厚度T:6-15MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转铜靶Cu


化学式:Cu

成型工艺:喷涂

密度:≥8.57g/cm3(≥96%)   

纯度:≥99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用:制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜,TFT-LCD,Low-E玻璃镀膜,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM,厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转锌锡靶ZnSn‍


化学式:ZnSn

成型工艺:喷涂

密度:≥6.7g/cm3   

纯度:≥99.9%

应用:广泛用于导电玻璃,太阳能光伏,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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图文展示-副本8

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