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自由容器-副本3
平面靶材
平面靶材


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平面铬靶Cr


化学式:Cr     

纯度:99.5%-99.99%

密度:≥7.15g/cm3(≥99.5%))

成型工艺:热等静压

应用:广泛用于各类装饰膜,建筑汽车玻璃膜,光刻铬板膜

最大加工尺寸:长度L1900MM*宽度W350*厚度T30,可以多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做



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平面钼靶Mo‍


化学式:Mo   

成型工艺:烧结

密度:≥10.2g/cm(≥99%)   

纯度:≥99.95%

应用:广泛用于太阳能光伏,太阳能电池,建筑玻璃,汽车玻璃,半导体电子,平板电视

最大加工尺寸:长度L1800*2300*厚度T50MM,按客户要求定做



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平面银靶Ag‍


化学式:Ag     

成型工艺:熔炼-轧制

密度:≥10.5g/cm3(100%)   

纯度:99.99%

应用:主要用于Low-E镀膜玻璃,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT-LCD,半导体电子

最大加工尺寸:长度L1900*宽度W280*厚度W28mm,可以多片拼接,按客户要求定做


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平面铝合金靶AI Alloy


化学式:Al Alloy   

成型工艺:挤压

密度:≥2.7g/cm3(≥97%)

电阻率(Resistivity)(20℃):<0.028 ohm.cm

纯度:99.9%

应用:广泛用于光学玻璃,触摸屏玻璃膜系,导电玻璃,TF T-LCD,触摸屏,半导体电子

最大加工尺寸:长度L2500*宽度W300*厚度T25mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做



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‍平面钼铌靶MoNb‍‍


化学式:MoNb   

成型工艺:烧结挤压

密度:≥9.7g/cm3(≥97%)   

电阻率(Resistivity)(20℃):<0.187 ohm.cm

纯度:99.95%

应用:广泛用于光学玻璃,触摸屏玻璃膜系,导电玻璃,TF T-LCD,触摸屏,半导体电子

最大加工尺寸:长度L1500*宽度W300*厚度T10mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做



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平面镍铬靶NiCr


化学式:NiCr   

成型工艺:真空熔炼(Vacuum Melting)

密度:≥8.2g/cm3(≥99.5%)

成分(Proportion):60:40wt%/80:20wt%

纯度:99.9%

应用:广泛用于各类装饰镀膜,光学膜系,建筑汽车玻璃膜系,Low-E玻璃

最大加工尺寸:L1500*W280*T28mm



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平面钛铝靶TiAI


化学式:TiAl

成分(Proportion):50:50at%、67:33at%、70:30a t%

成型工艺:热等静压   

密度:≥3.5g/cm3(99.5%)

纯度:99.7%

应用:用于制作陶瓷钛铝合金膜,用于五金装饰镀硬膜,刀具/工具镀耐磨、耐高温硬膜

最大加工尺寸:长度L1900*宽度W280*厚度T28mm,可以多片拼接,按客户要求定做


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‍平面氧化钛靶TiOx‍


化学式:TiOx(X<2)

成型工艺:热压烧结

密度:≥4.13g/cm3(≥97%)   

电阻率(Resistivity)(20℃):<1ohm.cm

纯度:99.9%

应用:广泛用于光伏玻璃,光学玻璃,触摸屏玻璃,建筑汽车玻璃膜系

最大加工尺寸:长度L300*宽度W300*厚度T10mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做


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平面氧化靶NbOx


化学式:Nb2Ox(X<5)

成型工艺:热压烧结

密度:≥4.54g/cm3(≥99.5%)

电阻率(Resistivity)(20℃):<1ohm.cm

纯度:99.99%

应用:广泛用于光伏玻璃,光学玻璃,触摸屏玻璃,建筑汽车玻璃膜系,导电玻璃

最大加工尺寸:长度L300*宽度W300*厚度T10mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做


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平面铜靶Cu


化学式:Cu       

成型工艺:熔炼-轧制(Melting-Rolling)

密度:≥8.9g/cm3(100%)   

晶粒尺寸(Grain size):<50um

纯度:99.99%

应用:用于制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜等,TFT-LCD,LoW-E镀膜,半导体电子

最大加工尺寸:长度L1900*宽度W280*厚度T18mm,可以多片拼接,按客户要求定做



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平面石墨靶C‍


化学式:C

成型工艺:等静压(IP)

密度:≥1,85g/cm3(≥99.5%)

纯度:99.95%

应用:主要用于制作类金刚石膜,作为刀具、工具的保护膜,共溅射碳化物膜的C源靶,Low-E玻璃

最大加工尺寸:长度L1000*宽度W300*厚度T12mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做



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平面钛靶Ti


化学式:Ti     

成型工艺:电弧熔炼-轧制(Electric arc melting-rolling)

密度:≥4.5g/cm3(100%)   

纯度:99.5%(TA1)

应用:主要用于反应制作TiN/TiC/TiO2等陶瓷膜,广泛用于各类光学玻璃,建筑汽车玻璃,触摸屏玻璃AR膜和保护膜,工具、刀具五金零件的保护硬膜,LOW-E玻璃

最大加工尺寸:长度L3000*宽度W350*厚度



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‍平面硅靶Si


化学式:Si

成型工艺:直拉/铸造

密度:≥2.33g/cm3(≥99.8%)   

电阻率(Resistivity):0.002Ω.cm

纯度:99.999%

应用:广泛用于各类光学玻璃,建筑汽车玻璃,触摸屏玻璃膜系

最大加工尺寸:长度L300*宽度W300*厚度T15mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做


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图文展示-副本9

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